光波长是可变的，假设某液体中光速只有真空中的1/10，那么193nm的光波在该液体中波长也就变成19.3nm，将芯片浸润在这样的液体中进行刻蚀，就能刻出20nm、10nm、5nm等不同的线宽的芯片。而且线宽这个概念并不能完全代表芯片的先进性，intel就说自己的14nm芯片比三星台积电的10nm工艺更先进，因为intel虽然线宽大点，但是栅极间距更小同样面积能集成更多晶体管。
193nm指的是极紫外线的波长，波长指的是最近两个波峰之间距离为193nm纳米，要想把这个极紫外线光波描述清楚还有波峰、波谷，还有每秒30万公里的光速。
20纳米是指半导体芯片上面的线宽，半导体芯片上面肯定要划线吧！划线要用光刻机，光刻机目前全世界最牛的是荷兰，划完线要用刻蚀机，也有叫蚀刻机的，刻蚀机再把划的线雕刻出来，该刻洞的刻洞，该刻凸的刻突，然后估计就是连金线、铜线、封装啊什么的乱七八糟我也不知道的东西了。中国刻蚀机在2017年4月左右报道说中微半导体尹志尧世界最先进5纳米等离子刻蚀机17年底交货，现在18年了我也没搜索到什么消息。
因为那些芯片材料缩小了吗，可以限制机器打上去的光也可以调制成吗，实在不行用本身光打出去大是吧，可以用一个镜子片，他是可以光越大通过镜子片出打去的光越小的，实现了20纳米，是机器通过调动镜子片的角度是光度缩小的就像放大镜子在倾斜多少度，发出去的光缩小吗实现了20纳米吧
